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    Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統

    簡要描述:Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統是一個緊湊且靈活的PVD(物理氣相沉積)系統,具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統有兩種型號:375型(最多可容納五個源,基底直徑可達四英寸)和300型(最多可容納四個源,基底直徑可達兩英寸)。由于其體積相對較小,真空腔體的抽真空速度較快,周轉時間約為30分鐘。

    • 產品型號:
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2025-01-26
    • 訪  問  量:304

    詳細介紹

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    Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統是一個緊湊且靈活的PVD(物理氣相沉積)系統,具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統有兩種型號:375型(最多可容納五個源,基底直徑可達四英寸)和300型(最多可容納四個源,基底直徑可達兩英寸)。由于其體積相對較小,真空腔體的抽真空速度較快,周轉時間約為30分鐘。

    Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統


    Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統可兼容多種源,包括磁控濺射源、納米顆粒源、小型電子束源、熱舟源以及原子和離子源。系統可以配置為向上濺射或向下濺射模式。此外,還提供基底旋轉、偏壓以及最高可達800的加熱選項。

    真空腔體在英國制造,采用高質量的304不銹鋼材質,并配有輕質鋁制門。它安裝在一個系統機架上,該機架包含控制系統、電源和真空泵。整個系統配備輪子以便移動,并在定位后可鎖定腳部以固定位置。

    集成的PC和多功能Spectrum軟件提供了無縫的用戶體驗,使客戶能夠遠程控制該系統并運行復雜的工藝配方。

    Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統


     

    關鍵特性:

    ·         可用的源包括磁控濺射源、納米粒子源、小型電子束源、熱舟蒸發源、原子源和離子源。

    ·         提供向上濺射或向下濺射配置。

    ·         提供旋轉、偏壓以及高達800℃的加熱選項。

    ·         周轉時間約為45分鐘。

    ·         真空度可達5×10??托。

    ·         系統機架包含控制系統、電源和泵。

    ·         集成的個人電腦配備Spectrum軟件,可實現自動化過程控制、復雜配方和數據記錄。

     

    The Cube系統配置:

    項目

    Cube    300

    Cube    375

    沉積腔尺寸

    300×300×300   mm

    375×375×375   mm

    基礎真空度

    <1×10??

    <5×10??

    濺射方向

    向下濺射/向上濺射

    向下濺射/向上濺射

    樣品臺

    2英寸晶圓,20/分鐘旋轉,射頻/直流偏壓和加熱至400℃

    4英寸晶圓,20/分鐘旋轉,射頻/直流偏壓和加熱至800℃

    抽真空系統

    80/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時干式前級泵

    300/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時干式前級泵

    閥門

    手動/自動閥門、快門、直線驅動和抽真空擋板閥

    手動/自動閥門、快門、直線驅動和抽真空擋板閥

    控制軟件

    配方驅動過程、電源控制和數據記錄

    配方驅動過程、電源控制和數據記錄

    原位監測

    石英晶體微量天平用于過程監測和終點檢測

    石英晶體微量天平用于過程監測和終點檢測

    源端口

    最多4個沉積源

    最多5個沉積源

    源類型

    納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發源、熱舟蒸發源、K型離子源、射頻原子源

    納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發源、熱舟蒸發源、K型離子源、射頻原子源

    涂層均勻性

    ±2%(樣品旋轉時)

     


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